您好!欢迎访问衢州亦水生化工有限公司!
公司动态list center

全国服务热线

13615798822

射频等离子体聚合沉积六甲基二硅氧烷

作者:超级管理员 发布时间:22-07-20 点击:321

为研究新颖环保的材料表面改性技术,通过射频等离子体聚合方法聚合沉积六甲基二硅氧烷(HMDSO)薄膜,并使用发射光谱,红外光谱,扫描电镜,原子力显微镜等测试方法,研究了HMDSO聚合膜的化学结构和物理形貌.实验结果表明,等离子体放电空间内的活性粒子对聚合膜的组成有直接影响.HMDSO等离子体聚合膜中含有Si-O,-CH3,-OH,C-O,C-O等官能团,其表面形貌为微米颗粒堆积膜,是一种新颖的聚合物膜.

相关资讯